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NBCメッシュテック シルクスクリーン国際版画ビエンナーレ展
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「第4回 NBCメッシュテック シルクスクリーン国際版画ビエンナーレ展」入賞者発表

「第4回NBCメッシュテック シルクスクリーン国際版画ビエンナーレ展」の

審査会が10月11日におこなわれ、大賞以下各賞が決定しました。

 大賞以下各賞と招待作品、入選作品をあわせた103作品を、12月2日(月)から7日(土)まで、

美術家連盟画廊(東京・銀座)にて展示します。

 

 

入賞作品展 

20131227

展覧会会場 : 美術家連盟画廊 (東京都中央区銀座3-10-19

時  間 : 午前11時より午後7時(初日は午後1時から、最終日は午後6時まで)

 案内ハガキ.pdf(228KB)

 

 

■大   賞  該当作品なし

 

■準大賞

  さいとう うらら  ghost 9090 

 

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  Dorota Nowak(ポーランド) Inside Spaces

 

 

 

NBCメッシュテック賞 

 

     平城 佑里子 遠いあこがれ 

 

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  館 泰子 process U. 13-01-05 

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■優秀賞 

 

 

  Ana Cristina Brandao(ブラジル) 「la clef」  

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  曽我 彩華 「雨の記憶 -3-」

     

 

 

 

  長田 奈緒 「輪ゴム」

     

 

 

 

 

■国際展賞

 

   Awg(アメリカ)                宮田 純子

 「Cartographic Landscape V」        「光とさざなみ」 

   

 

 

 

 

 Marc Siegner(カナダ)           石橋 佑一郎 

「THE CINNAMON PEELER」         「microscope -Fドーム-」

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 Vilma Rabello(ブラジル)           Johannes Edit(ドイツ)

 「Horizon Line」                   「Kapellenweg」 

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  (敬称略) 

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